高溫球閥一般有軟密封和硬密封結構，軟密封承受溫度較低一般不會超過350℃，而金屬密封高可到600度或以上。一般軟密封材料都是選擇PPL等，金屬硬密封選擇有不銹鋼、合金鋼等。當球閥作用力的連接方式，另外根據用戶的工況要求閥門處于關閉位置時，產生一個推理球體的力。球閥填塞式密封結構，也影響密封的性能。金屬密封具有耐磨、耐壓、耐高溫特點，所以在高溫范圍內不會變形拉伸，所以在選擇材料上是個重中之重。現在大部分的調節閥或者通用閥門閥桿和填料密封為接觸式密封，因其結構簡單、裝配及更換方便、成本低廉而被廣泛采用。

高溫閥門填料結構的改進設計

高溫工況下的閥門填料容易出現外漏的情況，高溫填料一般選擇膨脹石墨盤根為主。膨脹石墨填料的自潤滑性和膨脹性好、回彈系數高，但缺點是易碎、抗剪切力差，一般安裝在填料函的中間部分，防止膨脹石墨填料受到填料壓蓋和底部壓墊的擠壓而損壞；Hitec和HitecXL的凝固點分別為220°C、142°C和120°C。增強型石墨盤根因含有鎳絲等，結實抗擠壓，故可以安裝在頂部和底部。

雖然利用膨脹石墨和增強型石墨盤組合解決部分高溫下填料外漏的情況。但是對于閥門動作比較頻繁的工況，石墨盤根磨損率比較高，使用一段時間后需要人工緊填料函上的緊固螺栓，對于人工和排查都帶來了比較大的問題。基于上述問題的考慮，我司結合國內外文獻以及經驗的積累近年來研制一種補償性的閥門填料結構，特別針對高溫低壓、以及高溫高壓的不同工況，針對性的開發不同的高溫填料結構，一舉解決了閥門在高溫工況下容易外漏的情況。較大的閥板重量導致高溫調節閥的起重鏈受力較大，閥板調節也不夠靈活。

高壓閥門物理相沉積（PVD法）

◆在真空中應用蒸鍍、離子鍍、濺射等物理方法產品金屬離子，這些金屬離子在工件表面沉積，形成金屬涂層，或與反應器反應形成化合物涂層，這種處理工藝方法稱為物理相沉積，簡稱PVD法。此方法沉積溫度低，處理溫度400～600℃，變形小，對零件的基體組織及性能影響小。利用PVD法在W18Cr4V制造的針閥上沉積TiN層，而TiN層有極高的硬度（2500～3000HV）和高耐磨性，提高了閥門抗腐蝕性，在稀的鹽酸、硫酸、ｘｉａｏ酸中不受侵蝕，能保持光亮表面。PVD處理后覆蓋層精度很好。可研磨拋光，其表面粗糙度為Ra0.8µm，拋光后可達到0.01µm。熔鹽具有廣泛使用溫區、蒸汽壓低、粘度低、熱穩定性好和環保無污染等良好性能，其作為傳熱和蓄熱工質已被廣泛應用于太陽能光熱發電和余熱儲存等領域。