曝光顯影

1、蝕刻技術可以分為濕蝕刻和干蝕刻兩類。

早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量儀器鑲板，銘牌及傳統加工法難以加工之薄形工件等的加工；經過不斷改良和工藝設備發展，亦可以用于航空、機械、化學工業中電子薄片零件精密蝕刻產品的加工，特別在半導體制程上，蝕刻更是不可或缺的技術。此外，即使在通過使用感測構件來執行控制的情況下，如果顯影輥的傳送偏置或旋轉數量改變，則由于下游中的顯影輥與感光構件之間的顯影條件也需要同時受控，因此控制變得復雜。

2、曝光就是光圈、快門和感光度ISO的組合。

其中光圈和速度聯合決定進光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。

3、顯影包括正顯影和反轉顯影。

正顯影中顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性是相反的，反轉顯影中感光鼓與色粉電荷極性是相同的。

東莞市清溪利成感光五金廠本廠主要做曝光顯影工藝，平面、圓弧面、凹凸面、噴砂1氧2氧陽極、五金絲印.五金腐蝕等產品加工，有多年經驗，有需要以上的工藝歡迎您的到來參觀和洽談，可免費打。

（1）圓網上膠后，烘干時間過短或溫度偏低，經曝光后的感光膠層由于未能達到完全光敏聚合，當浸水顯影時，被曝光的膠層也擴散，并溶解于水，使整個園網膠層剝落，進而失去原有的花紋。

顯影液的成分與功能.一般顯影液由顯影劑、保護劑、促進劑和抑制ji組成.a.顯影劑 米妥爾：顯影速度快,反差小,受溫度影響小.對ben二酚：顯影緩和,反差大,受溫度影響大.菲尼酮：損耗低,用量小,易保存,易產生灰霧.b.保護劑：無水亞硫酸鈉 在顯影液中Na 2SO 3先與氧氣化合,防止了顯影劑的氧化,且有溶解銀鹽的的作用,有微粒效果.c.促進劑：無水碳酸鈉.在顯影中它能產生酸性物質xiù氫酸,起到妨礙顯影劑的作用,故用Na 2SO 3增加堿性.d.抑制ji：xiù化鉀.它可防止未曝光銀鹽還原成銀而生成灰霧.

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金屬蝕刻加工工藝過程為加工材料通過曝光顯影工序、將產品的圖形轉移到金屬鋼片上

把要蝕刻的金屬板接在電源的正極，放平后將噴淋器接在電源的負極，噴出的鹽水為導電液，進行電解，達到蝕刻的目的。

電蝕刻是利用金屬在以自來水或鹽水為蝕刻主體的液體中發生陽極溶解的原理，（電解的作用下）將金屬進行蝕刻，接通蝕刻電源，從而達到蝕刻的目的。現在市售的電解蝕刻機都是手動噴淋式的，并且都是以鹽水為蝕刻溶液，功率有大小。

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曝光顯影直接決定蝕刻圖案的準確性，因此在菲林的制作上，需要非常準確和清晰。操作人員要規范作業，避免圖案模糊或者移位影響產品品質。

金屬蝕刻加工中，曝光顯影是保證圖形準確的重要步驟，在其中需要用到感光膠進行，后面將感光膠處理干凈完成曝光顯影，然而蝕刻加工廠家在實際操作中會遇到感光膠脫不凈的情況